在處理槽的內部具備多個放電處理單元，放電處理單元具有接地電極、和與接地電極對置的放電電極，在接地電極與放電電極之間形成放電，通過放電來生成臭氧，并且使被處理水與放電接觸，由此對被處理水進行處理，具備：儲水部，其在處理槽的內部儲存由多個放電處理單元中的一個放電處理單元實施了水處理的被處理水;以及臭氧供給部，其將處理槽內的臭氧供給到儲水部內的被處理水，被處理水作為連續(xù)的流動通過多個放電處理單元。
1.一種水處理裝置，在處理槽的內部具備多個放電處理單元，所述放電處理單元具有接地電極、和與所述接地電極對置的放電電極，在所述接地電極與所述放電電極之間形成放電，通過所述放電生成臭氧，并且使被處理水與所述放電接觸，由此對所述被處理水進行處理，其中，所述水處理裝置具備：儲水部，其在所述處理槽的內部儲存由所述多個放電處理單元中的1個放電處理單元所處理的所述被處理水;和臭氧供給部，其將所述處理槽內的所述臭氧供給到儲存于所述儲水部的所述被處理水，所述被處理水作為連續(xù)的流動通過所述多個放電處理單元。
2.根據(jù)權利要求1所述的水處理裝置，其中，所述多個放電處理單元的每一個使過氧化氫溶解于所述被處理水。
3.根據(jù)權利要求2所述的水處理裝置，其中，所述多個放電處理單元的每一個具有增大放電電力以使得在對所述被處理水依次進行處理時越靠上游設置、所述過氧化氫的溶解量越變多的構成。
4.根據(jù)權利要求2或者3所述的水處理裝置，其中，還具備放電電力調節(jié)器，該放電電力調節(jié)器通過對放電電力進行可變控制來調整所述放電處理單元中的所述過氧化氫的溶解量。
5.根據(jù)權利要求1至4的任一項所述的水處理裝置，其中，在所述處理槽的內部具備多個臭氧溶解單元，該臭氧溶解單元包括所述儲水部和所述臭氧供給部。
6.根據(jù)權利要求5所述的水處理裝置，其中，所述臭氧溶解單元在所述處理槽的內部設于所述被處理水的流動的*上游側。
7.根據(jù)權利要求5或者6所述的水處理裝置，其中，所述臭氧溶解單元的每一個具有越靠上游設置、所述臭氧的溶解量越變少的構成。
8.根據(jù)權利要求5至7的任一項所述的水處理裝置，其中，還具備氣體流量調節(jié)器，該氣體流量調節(jié)器通過對供給到所述被處理水的氣體的流量進行可變控制來調整所述臭氧溶解單元中的所述臭氧的溶解量。
9.根據(jù)權利要求5至8的任一項所述的水處理裝置，其中，所述臭氧溶解單元的每一個具有氣體流量控制器，該氣體流量控制器對共同供給的氣體個別地進行調整、對所述被處理水供給期望量的流量的所述氣體。
10.根據(jù)權利要求5至9的任一項所述的水處理裝置，其中，所述多個放電處理單元的每一個具有放電電力控制器，該放電電力控制器對從共同電源供給的電力個別地進行調整、利用期望的放電電力來形成放電，所述臭氧溶解單元的每一個具有氣體流量控制器，該氣體流量控制器對共同供給的氣體個別地進行調整、對所述被處理水供給期望量的流量的所述氣體，所述水處理裝置還具備：水質計，該水質計對所述臭氧溶解單元的每一個中的所述被處理水的水質進行分析、輸出水質數(shù)據(jù);和集中控制器，該集中控制器根據(jù)所述水質數(shù)據(jù)來對所述放電電力控制器以及所述氣體流量控制器進行控制。
11.根據(jù)權利要求5至10的任一項所述的水處理裝置，其中，使1個放電處理單元和1個臭氧溶解單元形成為一對一體化的處理單元，在所述處理槽的內部配置多級所述處理單元。
12.根據(jù)權利要求5至11的任一項所述的水處理裝置，其中，在1張平板電極上形成有所述多個放電處理單元的每一個與所述臭氧溶解單元的每一個被交替配置的構成。
13.根據(jù)權利要求5至12的任一項所述的水處理裝置，其中，還具備pH計，該pH計測定所述臭氧溶解單元的每一個中的所述被處理水的pH、輸出pH值，所述臭氧溶解單元的每一個具有pH調節(jié)器，該pH調節(jié)器根據(jù)所述pH值，將儲存于所述儲水部的所述被處理水的pH值控制為期望的值。
14.根據(jù)權利要求5至13的任一項所述的水處理裝置，其中，所述臭氧溶解單元的至少1個具有紫外線燈，該紫外線燈對儲存于所述儲水部的所述被處理水照射紫外線。
15.根據(jù)權利要求1至14的任一項所述的水處理裝置，其中，所述接地電極為相對于水平面傾斜地配置的平板電極，所述被處理水沿著所述平板電極的上表面流動，所述放電電極隔著流過所述平板電極的所述被處理水所形成的水膜、和形成于所述水膜的上方的氣體層，與所述平板電極對置配置，所述多個放電處理單元的每一個通過對所述平板電極與所述放電電極之間施加電壓而形成所述放電。
16.根據(jù)權利要求15所述的水處理裝置，其中，所述多個放電處理單元的每一個具有第2平板電極，該第2平板電極將所述放電電極夾在中間地與所述平板電極對置配置，隔著空隙地設于所述放電電極的上方。
17.根據(jù)權利要求1至16的任一項所述的水處理裝置，其中，所述多個放電處理單元在相互縱向排列的方向配置。
18.根據(jù)權利要求1至17的任一項所述的水處理裝置，其中，所述儲水部是箱型的儲水器，所述被處理水儲存于所述儲水器，所述箱型的儲水器由底板、和以包圍所述底板的方式配置的側壁構成。
19.根據(jù)權利要求18所述的水處理裝置，其中，所述儲水部具有調節(jié)容積的容積調節(jié)機構。
20.根據(jù)權利要求1至19的任一項所述的水處理裝置，其中，所述臭氧供給部由氣體循環(huán)裝置、循環(huán)配管以及氣體擴散部件構成，所述氣體擴散部件配置成與儲存于所述儲水部的所述被處理水接觸，所述循環(huán)配管以使由所述氣體循環(huán)裝置從所述處理槽吸氣而得到的氣體從所述氣體擴散部件排出的方式連接，使從所述氣體擴散部件排出的所述氣體噴出到所述儲水部的所述被處理水中。
21.根據(jù)權利要求1至19的任一項所述的水處理裝置，其中，所述臭氧供給部由氣體循環(huán)裝置、循環(huán)配管以及氣體擴散部件構成，所述氣體擴散部件配置于所述儲水部的上方，所述循環(huán)配管以使由所述氣體循環(huán)裝置從所述處理槽吸氣而得到的氣體從所述氣體擴散部件排出的方式連接，將從所述氣體擴散部件排出的所述氣體噴吹到儲存于所述儲水部的所述被處理水的表面。
22.根據(jù)權利要求1至17的任一項所述的水處理裝置，其中，所述儲水部是以使所述被處理水沿著上表面流下的方式相對于水平面傾斜地配置的傾斜板，所述臭氧供給部由設于所述傾斜板的上表面的突起構成，所述突起對在所述傾斜板流下的所述被處理水的流動進行攪拌。
23.根據(jù)權利要求1至22的任一項所述的水處理裝置，其中，所述多個放電處理單元的每一個具有放電電力控制器，該放電電力控制器對從共同電源供給的電力個別地進行調整、利用期望的放電電力來形成放電。
24.一種水處理方法，在水處理裝置中被執(zhí)行，該水處理裝置在處理槽的內部具備多個放電處理單元，所述放電處理單元具有接地電極、和與所述接地電極對置的放電電極，在所述接地電極與所述放電電極之間形成放電，通過所述放電生成臭氧，并且使被處理水與所述放電接觸，由此對所述被處理水進行處理，其中，所述水處理方法具有：在所述處理槽的內部將由所述多個放電處理單元中的1個放電處理單元所處理的所述被處理水儲存于儲水部的步驟;和將所述處理槽內的所述臭氧供給到儲存于所述儲水部的所述被處理水的步驟，所述被處理水作為連續(xù)的流動通過所述多個放電處理單元，由此對所述被處理水進行處理。
25.根據(jù)權利要求24所述的水處理方法，其中，還具有：經(jīng)由水質計取得所述被處理水的水質數(shù)據(jù)的步驟;和進行控制以使得根據(jù)取得的所述水質數(shù)據(jù)對從共同電源供給的電力個別地進行調整、利用期望的放電電力來形成放電的步驟。
水處理裝置及水處理方法
技術領域
本發(fā)明涉及使用通過放電產(chǎn)生的臭氧及自由基等來對被處理水進行處理的水處理裝置及水處理方法。
背景技術
此前，在給排水的處理中，臭氧或者氯氣被廣泛使用。但是，例如有時在工業(yè)廢水等中包含不被臭氧或者氯分解的難分解性物質。特別是二英類及二烷等的去除成為大的課題。在一部分中，如下方法被實用化：通過將臭氧(O3)與過氧化氫(H2O2)或者紫外線組合，在被處理水中產(chǎn)生活性比臭氧或者氯高的羥基自由基(OH自由基)，進行難分解性物質的去除。但是，裝置成本及運轉成本非常高，不太普及。因此，提案有使通過放電產(chǎn)生的OH自由基等與被處理水直接作用，由此**率地去除難分解性物質的方法。具體而言，進行如下處理。從交替連接設置有多個臺階部和與臺階部相連的平板部的階梯狀的流路的上段部的水供給配管向階梯狀的流路供給包含雜菌的被處理水。然后，對膜狀地流過階梯狀的流路的被處理水照射由等離子體產(chǎn)生裝置所產(chǎn)生的等離子體，對被處理水中的水分子進行解離，生成O自由基及OH自由基，將被處理水中的雜菌殺滅。根據(jù)該水滅菌裝置及水滅菌方法，能夠促進被處理水與等離子體的接觸而充分地殺滅被處理水中的雜菌另外，還提案有如下的水處理裝置：以傾斜的狀態(tài)配置上下對置的一對電極板，使被處理水在下部電極上流下，在電極間形成阻擋放電，由此對被處理水進行處理。根據(jù)該水處理裝置，能夠利用簡單的結構來效率良好地處理被處理水。
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